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लक्ष्य सामग्री पतली फिल्में तैयार करने के लिए मुख्य सामग्रियों में से एक है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से सामग्री की शुद्धता और स्थिरता के लिए उच्च आवश्यकताओं के साथ एकीकृत सर्किट, फ्लैट पैनल डिस्प्ले, सौर सेल, रिकॉर्डिंग मीडिया, स्मार्ट ग्लास इत्यादि में किया जाता है।लक्ष्य सामग्री को स्पटरिंग करने का कार्य सिद्धांत: स्पटरिंग पतली फिल्म सामग्री तैयार करने की मुख्य तकनीकों में से एक है।यह आयन स्रोतों द्वारा उत्पन्न आयनों का उपयोग वैक्यूम में तेजी लाने और एकत्र करने के लिए करता है, जिससे एक उच्च गति वाली आयन किरण बनती है जो ठोस सतह पर बमबारी करती है।आयन ठोस सतह के परमाणुओं के साथ गतिज ऊर्जा का आदान-प्रदान करते हैं, जिससे ठोस सतह के परमाणु ठोस छोड़ देते हैं और सब्सट्रेट सतह पर जमा हो जाते हैं।बमबारी किया गया ठोस स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री है।
